① 在硬质涂层中的应用：切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。

②在防护涂层中的应用：飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。

③在光学薄膜领域中的应用：增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。

④在建筑玻璃方面的应用：阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。

⑤在太阳能利用领域的应用：太阳能集热管、太阳能电池等。

⑥在集成电路制造中的应用：薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。

⑦在信息显示领域的应用：液晶屏、等离子屏等。

⑧在信息存储领域的应用：磁信息存储、磁光信息存储等。

⑨在装饰饰品上的应用：手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜。

① 镀覆材料广泛：可作为真空镀蒸发材料有几十种，包括金属、合金和非金属。真空镀膜加工还可以像多层电镀一样，加工出多层结构的复合膜，满足对涂层各种不同性能的需求；

② 真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆：如铝、钛、锆等镀层，甚至陶瓷和金刚石涂层，这是十分难能可贵的；

③ 真空镀膜性能优良：真空镀膜厚度远小于电镀层，但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好，孔隙率低，而且无氢脆现象，相对电镀加工而言可以节约大量金属材料；

③ 环境效益优异：真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净，无污水排放，不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下，真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。

在真空状态下，加热蒸发容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉积在目标物体表面，形成固态薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为：抵抗加热、电子束、高周波诱导、雷射等加热方式。蒸镀材料有铝、亚铅、金、银、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料，主要有使用SiO₂、TiO₂、ZrO₂、MgF₂等氧化物与氟化物。蒸镀除金属外，树脂与玻璃也可以使用、近年来连纸也变成可蒸镀。

蒸发镀膜的优缺点
优点：设备简单、容易操作；成膜的速率快，效率高。
缺点：薄膜的厚度均匀性不易控制，蒸发容器有污染的隐患，工艺重复性不好，附着力不高。

电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶原子，靶原子沉积在基片表面形成膜。二次电子受到磁场影响，被束缚在靶面的等离子体区域，二次电子在磁场作用下绕靶面做圆周运动，在运动过程中不断和氩原子发生撞击，电离出大量氩离子轰击靶材。

磁控溅射的靶材

靶材的材质主要有金属靶材，金属氧化物靶材等。依据目标靶座的形状和大小进行加工。

磁控溅射优缺点
优点：工艺重复性好，薄膜纯度高，膜厚均匀，附着力好。
缺点：设备结构复杂，溅射靶材一旦穿透就会导致整块靶材的报废，所以靶材的利用率低。